首先定性地說明一下，在進行透鏡蒸發(fā)鍍膜時候為什么蒸發(fā)的空間需要抽真空.其原因如下，

　　1)防止在高溫下因空氣分子和蒸發(fā)源源發(fā)生反應，生成化合物而使蒸發(fā)源劣化。

　　2) 防止因蒸發(fā)物質的分子在真空室內與空氣分子碰撞而阻礙蒸發(fā)分子直接打到透鏡基材表面，和在途中生成化合物或者由于蒸發(fā)分子間的相互碰撞而在到達透鏡基材之前就凝聚等。

　　3)防止在透鏡基材上形成薄膜的過程中，空氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜中形成化合物。